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半導體用臭氧水去除有機物質臭氧濃度需要達到多少

半導體用臭氧水去除有機物質臭氧濃度需要達到多少

使用臭氧水可去除的物質以及所需臭氧的濃度

利用臭氧的強氧化能力,可以實現(xiàn)分解并去除大量的雜質。

根據雜質的形狀與數量的不同,所需濃度也將有所變化,請參考下圖數據。

此外,如將稀氫氟酸與臭氧水同時使用,去除雜質的效果將倍增。


標簽:半導體 臭氧水 有機物質 臭氧濃度


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